紫外光芬顿-膜分离耦合体系降解金霉素

作者：姚宏; 向鑫鑫; 薛宏慧; 孙绍斌; 张旭; 鲁垠涛; 张战胜^*

来源：中国环境科学, 2020, 40(04): 1577-1585.

DOI：10.19674/j.cnki.issn1000-6923.2020.0177

• 非均相光芬顿
• 金霉素
• 陶瓷膜
• 膜分离
• 降解机理

以金霉素为降解对象,采用沉淀法制备α-Fe OOH光催化剂,进一步将其用共价结合法负载在陶瓷膜上,用SEM、XRD、EDS、UV-Vis和FTIR对α-Fe OOH和光催化陶瓷膜进行表征.结果表明催化剂α-Fe OOH呈针状或纺锤长片状,长宽分别为500550nm、2550nm,经α-Fe OOH改性的陶瓷膜孔隙率由14.83%变为8.11%.研究光芬顿陶瓷膜耦合体系对金霉素的降解效率和动力学行为,确定了光芬顿陶瓷膜耦合体系的最优降解条件为金霉素初始浓度50mg/L,H2O2投加浓度10mmol/L,UV强度为3796.6μW/cm2.进一步利用UV-Vis光谱分析了两种体系对金霉素的降解机理,光催化剂体系下, H2O2的浓度基本保持不变,而光芬顿陶瓷膜耦合体系下H2O2的浓度先升后降,同时后者在同一时间点对TOC和NH4+-N去除率更高,表明光芬顿陶瓷膜耦合体系氧化能力更强,对金霉素的降解更为彻底.

• 单位
  北京交通大学; 建筑工程学院