摘要

采用水热和烧结方法制备了氧空位调控的BiVO4纳米片。通过X射线衍射仪、电子自旋共振谱仪、透射电子显微镜、紫外-可见分光光度计、荧光光谱仪和光解水制氧系统研究了不同氧空位含量(OV)BiVO4纳米片的结构和光解水制氧性能。通过对氧空位含量的调控,实现了对BiVO4纳米片的光吸收和光电性能的优化,极大提高了BiVO4纳米片的光解水制氧效率。结果表明:引入氧空位后,BiVO4纳米片在可见光区的光吸收明显增强,并且随着氧空位含量的增加,样品的吸收边发生明显红移。适量氧空穴的引入显著提高了光生电子和空穴的分离,从而提高光生电子的利用率。BiVO4-OV2纳米片的光催化产氧速率约433μmol/(h·g),约为BiVO4纳米片的10倍。