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摘要
为细化专利合作网络结构特征对企业专利质量的影响过程，尤其针对当前文献较少关注以知识搜索为中介变量的内在影响机制，以大尺寸硅片等7种集成电路“卡脖子”技术为研究对象，基于知识基础观，以度数中心度和结构洞代表合作网络结构特征，采用2012—2019年中国这7种技术的发明专利合作数据，构建5组4年期的移动时间窗，并结合考虑期刊影响因子构建企业专利质量评价指标体系，运用社会网络分析、文献计量和回归分析等方法进行实证分析。结果表明：在企业专利合作网络中，度数中心度与结构洞这两大结构特征对于专利质量存在正向促进作用，知识搜索在其中发挥重要中介作用，其深度和宽度增加对于企业专利质量均存在正向促进作用；而专利合作网络结构特征对于企业知识搜索同样具有正向影响。因此，中国的集成电路企业要积极与外部组织展开合作，包括组成商业联盟或构建开放式合作研发平台；加强拓宽和加深知识搜索渠道，构建完善知识获取体系，加强知识储备，促进企业专利质量的提升；此外，加大研发投入，扩充研发人员数量、引进高质量研发人才，提升自身的知识吸收、整合和转化的能力。
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