多弧离子镀法制备高硅钢

作者：周杰; 吴隽

来源：中国金属学会电工钢分会, 中国海南海口.

• 多孤离子镀法
• 高硅钢
• 研究

本文以3wt%Si取向硅钢为基底和模版,采用多弧离子镀技术在其表面沉积制备出Si含量高达6.44wt%的FeSi合金膜,两者相结合形成高硅梯度硅钢。XRD和SEM分析表明:FeSi合金膜由具有BCC结构的FeSi固溶体及Fe_3Si相组成;经过500℃1.5小时真空退火处理,两者结合更为紧密,合金膜成分更加均匀;电阻率和磁性能测量结果表明:该FeSi合金膜的电阻率高达64.3μΩ.cm,饱和磁化强度和矫顽力分别达到1100emu/cm~3和75.70e。

• 单位
  中冶南方（新余）冷轧新材料技术有限公司; 武汉科技大学