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摘要
氧化锌（ZnO）光电敏感薄膜的精确喷印是集成制造的关键.本文采用近场静电雾化工艺制备ZnO光电敏感薄膜，通过缩短喷头至收集板距离，并缩小薄膜的沉积区域线宽，使纳米颗粒均匀分布在150～250μm线宽内.考察了不同喷印工艺对薄膜结构的影响.喷印次数增加，薄膜内的纳米颗粒分布密度增加，纳米颗粒间形成连续均匀分布，薄膜沉积线宽随施加电压和喷头至收集板距离的增大而增大.测试了不同ZnO薄膜结构对紫外光电探测器性能的影响，当紫外光强为3 500 mW/cm2时，响应光电流可达464μA,为暗电流的266.7倍，表现出了良好的光电探测性能，并具有良好的稳定性和可重复性.
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