Al-Si合金RIE参数选择

作者：李希有; 周卫; 张伟; 仲涛; 刘志弘

来源：半导体技术, 2004, 29(11): 19-21.

DOI：10.3969/j.issn.1003-353X.2004.11.007

• 反应离子刻蚀
• 正交试验
• Al刻蚀
• 刻蚀速率

采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验,并以均匀性、刻蚀速率、对PR选择比为评价指标。试验中发现RF功率是影响各评价指标的最主要因素。通过进一步优化工艺,制定出了均匀性小于3%,刻蚀速率高于300nm/min,对PR选择比好于1.8的刻Al实用工艺。

• 单位
  清华大学