平面靶直流溅射制备YBCO高温超导薄膜研究

作者：贺镜潭; 熊杰; 陶伯万; 杜洪立; 柴刚; 肖山

来源：低温与超导, 2008, (12): 23-27.

DOI：10.16711/j.1001-7100.2008.12.009

• YBCO高温超导薄膜
• 平面靶直流溅射
• 负离子反溅射 YBCO HTS films
• Plane target sputtering
• Negative ions bombardment

开展了平面靶溅射法制备YBa2Cu3O7-δ(YBCO)高温超导薄膜工艺研究,以达到提高沉积速率的目的。通过增加工作气体总压(Pt),采用基片旋转达到离轴溅射模式,有效地克服了传统平面靶直流溅射法中高能粒子轰击和负离子反溅射现象。在两英寸LaA lO3(LAO)基片上成功外延生长得到了微观结构良好、电学性能优越(临界电流密度Jc=2.3/2.0mA/cm2)的双面YBCO高温超导薄膜。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室