放置方向和沉积时间对Ti大颗粒分布状态的影响

作者:魏永强; 魏永辉; 蒋志强; 田修波
来源:表面技术, 2014, 43(05): 6-41.
DOI:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2014.05.011

摘要

目的研究基体表面和靶表面不同放置方向以及沉积时间对Ti大颗粒形貌和分布规律的影响。方法利用电弧离子镀方法在基体上制备TiN薄膜,采用扫描电子显微镜观察TiN薄膜的表面形貌,利用ImageJ图像软件对TiN薄膜表面中Ti大颗粒的数目和尺寸进行分析。结果靶基间距保持25 cm,当基体表面与靶表面垂直放置时,薄膜表面的大颗粒数目和所占面积比比平行放置时要少,同时出现了典型的长条状大颗粒;随着沉积时间从5 min增加到50 min,大颗粒数目和所占面积比出现先减小后增加的趋势。结论选择基体表面与靶表面垂直放置,沉积时间为3040 min时,薄膜的沉积厚度和减少大颗粒缺陷可以兼顾。

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