我国化学气相沉积(CVD)金刚石研究历史、现状与发展趋势

作者:李成明; 任飞桐; 邵思武; 牟恋希; 张钦睿; 何健; 郑宇亭; 刘金龙; 魏俊俊; 陈良贤; 吕反修
来源:人工晶体学报, 2022, 1-25.
DOI:10.16553/j.cnki.issn1000-985x.20220428.007

摘要

化学气相沉积(CVD)技术使得金刚石优异综合性能够在诸多领域实现应用,并有可能是跨越式的发展。色心使得金刚石量子加速器初步显示了巨大可行性,包括紫外激光写入技术窗口应用等多种场景将金刚石窗口的光、电、热和力学综合优势发挥到了极致,超宽禁带金刚石半导体应用将很快实现,金刚石的散热应用在不断扩展。通过总结CVD金刚石的制备方法和特点,根据金刚石的本征特点归纳CVD金刚石为量子级、电子级、光学级、热学级和力学级,从我国CVD技术的发展历程中获得更多经验,清晰目前CVD金刚石发展的状态,对研判CVD金刚石未来发展的趋势有重要意义。

全文