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摘要
本文针对公司电脑硬盘部件磁头的ABS面(气垫面)制造过程中,等离子刻蚀及清洗工艺完成后在ABS面图形边缘发现残留物(小突起,Fencing)的问题,进行了试验分析研究并找到了解决问题的办法。在对淀积物残留物形成机理的研究基础上结合对光刻技术、等离子刻蚀技术的研究的后,采用DOE实验方法优化了软烘及显影工艺后,增强了光刻胶与基材的粘附性进从而极大地减少了残留物的产生。ABS面图形边缘残留物的问题得到有效解决。
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本文针对公司电脑硬盘部件磁头的ABS面(气垫面)制造过程中,等离子刻蚀及清洗工艺完成后在ABS面图形边缘发现残留物(小突起,Fencing)的问题,进行了试验分析研究并找到了解决问题的办法。在对淀积物残留物形成机理的研究基础上结合对光刻技术、等离子刻蚀技术的研究的后,采用DOE实验方法优化了软烘及显影工艺后,增强了光刻胶与基材的粘附性进从而极大地减少了残留物的产生。ABS面图形边缘残留物的问题得到有效解决。
