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摘要
内应力影响着涂层的组织及物理性能，是涂层制备中关键的检测指标。无损检测手段中，X射线衍射应力测定方法如sin2ψ法的应用已多见报道，但在CVD涂层α-Al2O3-TiCN体系中多采用侧倾法，少见其他测量方式的讨论。本文尝试采用Rietveld掠射法辅助侧倾法表征硬质合金基CVD多层涂层残余应力，探讨TiN-Al2O3-TiCN体系中各涂层相在基底沉积方向上的受力情况。实验表明，TiN于喷砂前，浅表层已受压应力；喷砂后由浅表层至相基底则为压应力单调递减，但喷砂力度过大时，应力释放使得浅表层应力值下降。Al2O3喷砂前后均为压应力转为拉应力的变化趋势。MT-TiCN应力变化趋势与Al2O3相似，但由于其距表层的深度相对最大且相结构与TiN相近，分析结果容易受其他因素干扰，如衍射强度差异、样品厚度不均或喷砂力度过大导致的涂层减薄、应力释放等。系列工艺试验样的测试结果说明本方法有较高的可靠性。
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单位厦门钨业股份有限公司
