制备工艺参数对无氢类金刚石薄膜结构及光学性能的影响

作者：冯建; 姜宏; 马艳平^*; 张振华; 那聪

来源：材料科学与工程学报, 2019, 37(01): 40-76.

DOI：10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.01.008

• 类金刚石薄膜
• 磁控溅射
• 透过率
• 拉曼光谱

采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜。采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能。结果表明,溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响。薄膜内部sp3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小,随工作气压的增大而增加,随氩气流量的增加先增大后减小。在工作气压为2.0Pa时,可制备出ID/IG为0.86、可见光区平均透过率为85%、光学带隙为1.68eV的DLC薄膜。

• 单位
  海南中航特玻科技有限公司; 海南大学; 材料与化工学院