化学气相沉积法制备二维过渡金属硫族化合物研究进展

作者：王栋; 魏子健; 张倩; 夏月庆; 张秀丽; 王天汉; 袁志华; 兰明明^*

来源：人工晶体学报, 2023, 52(01): 156-169.

DOI：10.16553/j.cnki.issn1000-985x.20221207.002

• 过渡金属硫族化合物
• 化学气相沉积
• 盐辅助化学气相沉积
• 金属有机化学气相沉积
• 二维材料
• 前驱体
• 影响因素

二维过渡金属硫族化合物(TMDs)是继石墨烯之后的新型二维材料，由于其自身的独特物理化学性质在半导体、光电材料、能源储存和催化制氢等方面备受瞩目。化学气相沉积(CVD)是目前适合实现大规模制备二维材料的工艺之一，制备过程中参数的高度可控性使其具有很大优势。本文综述了近期通过CVD制备TMDs的研究进展，探讨了在CVD制备工艺中各种参数对产物生长和最终形貌的影响，包括前驱体、温度、衬底、辅助剂、压力和载气流量等。列举了一些改进的CVD制备工艺，并对其特点进行了总结。最后讨论了目前CVD制备TMDs所面临的挑战并对其发展前景进行展望。

• 单位
  河南农业大学; 机电工程学院