纳米压印模具及膜厚对抗蚀剂填充特性的影响

作者：杜军; 魏正英; 熊孝东; 何威; 唐一平

来源：浙江大学学报(工学版), 2012, (07): 1175-1181.

• 纳米压印
• 填充特性
• 深宽比
• 初始膜厚 nanoimprint lithography
• filling characteristic
• duty ratio
• initial thickness

为了揭示模具深宽比、膜厚对抗蚀剂填充特性的影响规律,采用计算流体动力学方法对紫外纳米压印过程进行计算.计算模型考虑了表面张力、接触角等因素,计算分析不同模具凹槽深宽比、抗蚀剂初始膜厚时对应的抗蚀剂填充形貌.通过分析发现,在抗蚀剂初始膜厚一定的条件下,随着模具凹槽深宽比的减小,抗蚀剂倾向以双峰模式填充凹槽,填充廓线峰值点沿水平方向呈阶梯形迁移,深宽比越小,阶梯效应越明显.当抗蚀剂初始膜厚减小时,抗蚀剂填充方式将由单峰模式向双峰模式转换,在双峰模式下抗蚀剂填充率随填充时间的变化率呈明显的非线性特征.通过分析厚宽比TWR发现,单、双峰转换的临界范围为5∶8<TWR<2∶3.

• 单位
  西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室