镁合金表面低应力、高结合强度Si/DLC厚膜的制备方法

作者：李海涛; 陈玉华; 黄永德; 王善林; 陈宜; 殷祚炷; 毛育青

来源：2019-07-02, 中国, CN201910587317.2.

镁合金表面低应力、高结合强度Si/DLC厚膜的制备方法,涉及一种纳米周期Si/DLC厚膜的制备方法。方法：一、镁合金基体的前处理；二、镀膜前准备；三、制备Si过渡缓冲层；四、制备DLC硬质层；五、制备Si/DLC交替的纳米周期厚膜,得到膜基结合力较高的的优质Si/DLC厚膜。本方法将直流电源、偏压电源和铜线圈结合应用在磁控溅射技术中,该方法简单,是一种低应力、高结合强度厚膜制备的先进方法,磁控溅射过程中辉光持续稳定,制备的厚膜致密均匀,膜基结合强度高,消除了传统PVD方法中柱状晶结构,在提高硬度的同时,又提高了腐蚀性能,这对于镁合金表面性能的提高以及扩大镁合金的应用,减少磨损,节约资源有着重要意义和前景。

• 单位
  南昌航空大学