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摘要
钨作为散裂中子源固体靶的首选材料，钨的辐照损伤及氦行为研究被广泛关注。本文对高纯钨片进行常温氦离子注入，氦离子能量350 keV，注入剂量分别为1×1016,5×1016和1×1017ions·cm-2。利用纳米压痕测量技术表征He注入前后钨的硬度变化，测试结果表明，氦离子注入后，钨出现辐照硬化现象，且随着注入剂量的增大，钨表面纳米压痕硬度增大；3个不同注入剂量样品的纳米压痕硬度值都随着测量深度先增大后降低。透射电镜(TEM)结果显示，氦离子注入后，钨内产生了氦离子聚集，形成氦泡，且随着注入剂量的增大，氦泡尺寸逐渐增大，氦泡密度提高。
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单位中南大学; 中国科学院高能物理研究所; 北京航天动力研究所; 散裂中子源科学中心
