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摘要
为了将兆声引入化学机械抛光,进一步提高抛光效率,深入研究了化学机械抛光中兆声对抛光液流动的影响。首先测试抛光头工作表面的轴向振幅,再观察兆声致抛光液流动现象,最后对抛光头中声场和兆声致流场进行理论分析。利用流体力学理论分析讨论兆声致抛光液流动的机理。测试结果表明:抛光头工作表面振动频率为1. 7 MHz,振幅沿径向减小并伴有振荡,中心处最大振幅接近70 nm,这与计算结果基本一致。兆声致抛光液流动实验表明:兆声能有效激励抛光液使其从抛光垫微孔中涌出,涌出量逐渐增大,但流量逐渐减小,渐近至零。这一结果可由兆声致流场给出解释:兆声振子表面轴向振幅被贝赛尔函数调制,这种振动沿轴向传至抛光液,产生随坐标和时间变化的流场;流量随时间的涨落和不同区域间的流量差,造成抛光液在抛光垫微孔间交互流动。可见,这种兆声致抛光液流动,能有效提高抛光液利用率、改善抛光效果。
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单位辽宁工业大学
