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摘要
NEG镀膜技术可以在狭长的真空腔内实现超高真空，这对衍射极限储存环至关重要。为满足HALF光源工程对NEG镀膜真空腔的进度和质量需求，基于之前的单管NEG镀膜工作，发展了多腔镀膜技术并开展了系列技术研究，利用扫描电子显微镜，原子力显微镜，能量色散X射线能谱对NEG薄膜进行表征，利用X射线光电子能谱对NEG薄膜的激活特性进行分析。结果表明多腔系统中各真空管之间，以及与之前的单管镀膜真空管内壁薄膜的表面形貌，断面形貌，表面粗糙度和组成成分大体相同，在180℃保温2 h后，NEG薄膜表面的金属高价态被还原成了低价态并出现了Ti、Zr、V的金属态，这与之前单个镀膜真空腔的结果一致。三根此种方法镀膜真空腔串联安装，并配有SIP组成真空系统来模拟HALF储存环真空的实际工作状态。经180℃激活24 h后，腔体远端真空度为4.13×10-8 Pa，且真空度随时间变化缓慢变好，放置260 h后真空度可以达到3.74×10-8 Pa，这将为HALF真空系统工作提供有利的技术支持。
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