新型工艺处理半导体行业废水工程实例

作者：王礼春; 徐文祥; 张雨萌; 郑登虎; 凌水义; 王晓刚; 田永康^*

来源：山西化工, 2023, 43(09): 234-236.

DOI：10.16525/j.cnki.cn14-1109/tq.2023.09.093

• 半导体废水
• 短程硝化
• 厌氧氨氧化
• 混凝沉淀
• MBR工艺

半导体行业作为芯片的唯一来源，生产制造过程中废水的处理问题日益加剧，特别是多种废水处理工艺。以江苏无锡某新建6寸、12寸半导体生产制造及GaAs封测项目为例进行工艺研究，针对其系统含氟废水、氨氮废水、有机废水、酸碱废水和重金属废水等采用加药化混沉淀法、短程硝化+新型厌氧氨氧化、混凝沉淀法等工艺使其出水满足排放标准。旨在为半导体行业混合废水处理提供参考，以供同行之间学习交流。