光电含钼蚀刻废液再利用处理方法

来源：中国钼业, 2019, 43(02): 30.

<正>专利申请号:CN201510397109. 8公开号:CN105254095A申请日:2015. 07. 08公开日:2016. 01. 20申请人:中国台湾华钼实业股份有限公司本发明涉及一种光电含钼蚀刻废液再利用处理方法,是将含钼蚀刻废液中的钼离子吸附于阴离子交换树脂内饱和之后进行分离解析作业,所得的分离液含高浓度钼金属离子再利用回收处理,采用的