IGZO-TFT钝化层三元复合结构过孔刻蚀

作者：田茂坤^*; 董晓楠; 黄中浩; 王骏; 王思江; 赵永亮; 闵泰烨; 袁剑峰; 孙耒来; 谌伟; 王恺; 吴旭

来源：液晶与显示, 2019, 34(06): 564-569.

• 氧化物TFT
• 三元复合结构
• 钝化层
• 过孔刻蚀

IGZO-TFT钝化层设计三元复合过孔结构,出现了20%过孔相关不良。本文以CF4/O2为反应气体,采用控制变量法,从功率、气体成分和比例、压力等方面对氧化物TFT钝化层的电感耦合等离子体刻蚀机理进行研究。当钝化层为SiO2或SiNx单组分时,氧气可以促进刻蚀反应;随着CF4/O2比例增加,刻蚀速率先增大后趋于稳定,并且当CF4/O2=15/8时,刻蚀速率和均一性达到最优;与源功率相比,提高偏压功率在提升刻蚀速率中起主导作用,同时均一性控制在15%以内;当压力在4Pa以内时,刻蚀速率随着压力的降低而增加。据此分析,对复合结构SiNx/SiO2、SiO2/SiNx、SiNx/SiO2/SiNx的刻蚀过程进行优化,得到了形貌规整、无残留物的过孔,过孔相关不良得到100%改善。