激光刻蚀在覆盖Cu-Ni的PVDF薄膜图案化中的应用

作者：朱晓航; 王任鑫; 白建新; 张鹏飞

来源：传感器与微系统, 2021, 40(04): 154-156.

DOI：10.13873/J.1000-9787(2021)04-0154-03

• 聚偏氟乙烯
• 电极
• 激光刻蚀
• 压电薄膜
• 金属图案化

为了对表面镀有纳米级别金属层的聚偏氟乙烯(PVDF)压电薄膜上进行金属图案化处理,利用光刻技术,分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀两种途径。实施了不同配方的湿法腐蚀、离子束刻蚀(IBE)、激光刻蚀对表层覆盖Ni-Cu的PVDF薄膜进行尝试。结果发现:激光刻蚀可以得到宽度为100μm,厚度为450 nm,长度为600μm的曲梁电极图案。

• 单位
  中北大学