研究了GH4169合金的氧化机理,设计并开展了650℃对GH4169合金的氧化试验,利用XRD分析了氧化膜的主要产物,利用扫描电镜观察氧化膜的表面及截面形貌,结合EDS能谱数据。结果显示,在650℃下,GH4169合金其表层氧化膜主要由NiCr2O4组成,氧化动力学规律接近于平方抛物线模型。