高分子基质对光学-氧压敏感涂料压力灵敏度的影响

作者：於国伟; 王志栋; 屈小中; 史燚; 金毕青; 刘治田; 金熹高

来源：Acta Polymerica Sinica, 2014, (03): 350-355.

• 压力敏感涂料
• 聚合物载体
• 发光探针
• 荧光猝灭
• 氧压灵敏度

光学-氧压敏感涂料(pressure sensitive paint,PSP)由氧敏感的发光探针和聚合物载体组成,涂料的氧压灵敏度既与发光探针有关,也与聚合物载体有关.以四(五氟苯基)卟啉铂(PtTFPP)为发光探针,将它分别与四种聚合物即聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基苯基硅氧烷(PMPS)、聚甲基氟丙基硅氧烷(PFS)和三氟氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(PFC)混合成膜.研究不同聚合物对PSP的氧压灵敏度的影响,在室温和氧浓度[O2]分别为0%、20%、40%、60%、80%和100%环境下,以λ=365 nm的光激发,测定其对荧光强度I的猝灭作用,从I0/I(I0为纯N2气氛下的荧光强度)对[O2]的关系可知:它们的氧猝灭灵敏度随聚合物的氧透过性而增加,即PDMS>PMPS>PFS>PFC,该结果表明上述体系的氧猝灭可从扩散控制机理得到解释.

• 单位
  武汉工程大学; 中国科学院化学研究所; 高分子物理与化学国家重点实验室