脉冲激光沉积TiN/AlN多层膜的微结构与力学性能

作者：唐普洪; 宋仁国; 柴国钟; 毛杰; 熊京远

来源：光电子-激光, 2010, (12): 1798-1804.

DOI：10.16136/j.joel.2010.12.003

• 脉冲激光沉积(PLA)
• 多层膜
• TiN/AlN
• 微观结构
• 纳米压痕 pulsed laser ablation(PLA)
• multilayer films
• TiN/AlN
• microstructure

采用脉冲激光沉积(LPA)法,在单晶Si表面制备了调制周期为50nm的不同调制比的TiN/AlN多层膜,并研究了调制比对多层膜微结构和力学性能的影响。扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)显示,薄膜的调制比在1～4之间。并且小调制比下薄膜表面的岛密度小,岛面积过大,分布不均匀,相邻岛之间的起伏较大。X射线衍射(XRD)结果表明,小调制比下,AlN相为明显的(002)择优取向,TiN相主要以(200)、(220)形式存在;调制比增大后,AlN相的择优取向减弱,同时伴随着薄膜晶粒的细化及硬度增强,这一研究结果说明,调制比对多层膜的性质有一定的影响,大调制比会导致Al元素在界面处聚集,并与TiN...

• 单位
  浙江工业大学; 嘉兴职业技术学院