LaAlO_3(110)基片上BST薄膜的制备及性能研究

作者：王波; 杨传仁; 陈宏伟; 张继华; 余桉; 张瑞婷

来源：压电与声光, 2009, (01): 106-108+122.

• 钛酸锶钡(BST)
• 射频磁控溅射
• 调谐率
• 优值因子 barium strontium titanate
• RF magnetron sputtering
• dielectric tunability
• figure of merit

采用射频磁控溅射法在LaAlO3(110)单晶基片上制备了钛酸锶钡薄膜材料。薄膜在800℃退火30 min,结晶优良,薄膜与基片匹配良好,同时由于基片的诱导作用,薄膜在(110)方向有一定的择优取向。测得薄膜的剩余极化强度Pr=1.37μC/cm2,矫顽电场强度EC=31.7 kV/cm。对比不同频率下的偏压特性,100 kHz时薄膜具有最高的优值因子F,为23.4。对介电损耗在1 MHz时的增大,作出了初步的解释。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室