脉冲直流PCVD制备Ti(C,N)薄膜及其组织结构分析

作者：王昕; 马大衍; 马胜利; 徐可为

来源：稀有金属材料与工程, 2004, (02): 204-206.

• PCVD
• Ti(C
• N)
• 相结构 PCVD
• Ti(C
• N)
• microstructure

用工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,针对不同混合气体CH_4所占比例,在H13模具钢表面沉积了Ti(C,N)薄膜。用SEM观察薄膜断口形貌,用XRD及XPS分析薄膜相组成和价态。结果表明:一定量碳元素的加入,抑制了TiN薄膜中柱状晶的生长,并且阻止了TiN晶粒的长大。Ti(C,N)的相结构可能为TiN和TiC两相混合,但在C(或N)含量较低的膜层中,C(或N)原子也会以置换的方式存在于TiN(或TiC)单相组织中。

• 单位
  西安交通大学; 金属材料强度国家重点实验室