TFT制程曝光色差研究

作者：黄霜霜^*; 喻玥; 马国永; 赵辉; 高文; 沈建华; 陈萍; 阳志林; 李连峰; 马新星

来源：液晶与显示, 2021, 36(03): 412-419.

• TFT
• 曝光色差
• 图像处理
• 照度均一性
• 馈入电压

在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价。然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10%以上降至1%以内,有效改善面板显示品质。最后,结合ExpertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理。研究发现,像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性,像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现。同时,各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性,以减小耦合电容对显示的影响。