五氟乙烷的真空紫外光电离光解离

作者：杨斌; 黄超群; 杨锐; 卫立夏; 王晶; 王思胜; 单晓斌; 齐飞; 张允武; 盛**; 王振亚; 郝立庆; 周士康

来源：Acta Physico - Chimica Sinica, 2005, (05): 539-543.

• 五氟乙烷
• 光电离
• 出现势
• 解离能

利用同步辐射真空紫外光电离结合飞行时间质谱对五氟乙烷(CHF2CF3)进行了光电离光解离的研究,测定了CHF2CF3的电离势及该分子主要碎片离子的出现势.结果表明:CHF2CF3的绝热电离势为(12.25±0.10)eV,主要碎片离子有CF2CF3+、CHFCF3+、CF2CF2+、CF3+、CHF2+、CHF+和CF+,其出现势分别为(13.93±0.10)eV,(15.25±0.10)eV,(15.12±0.10)eV,(13.30±0.05)eV,(13.05±0.08)eV,(19.17±0.10)eV和(19.56±0.15)eV.另外,用从头算分子轨道理论计算了解离电离过程中所有碎片的总能量,并给出了电子态及对称性.根据实验结果和理论计算,分析了可能的解离通道,并得到了分子及母体离子的键解离能等重要的热力学数据.

• 单位
  中国科学院安徽光学精密机械研究所; 中国科学院，安徽光学精密机械研究所; 中国科学技术大学