脑血管造影术中X射线机房内辐射剂量分布研究

作者:武大鹏; 万玲; 娄云; 冯泽臣; 王新明; 侯磊; 王宏芳; 王树华; 彭建亮; 翟曙光
来源:中华放射医学与防护杂志, 2011, 31(4): 387-390.
DOI:10.3760/cma.j.issn.0254-5098.2011.04.003

摘要

目的 研究脑血管造影术中不同照射方向下X射线机房内辐射剂量场的分布情况.方法 选用脑血管造影术程序,选取后前位、前后位、右前斜30°、左前斜30°、右侧位和左侧位6种照射方式,使用451B型空气电离室巡测仪对以散射模体为中心、半径为3 m范围内的辐射场的剂量率分布进行测量.结果 后前位及右侧位照射时主要操作人员所受到的辐射剂量最低,均为0.4 mGy/h;左侧位照射时主要操作人员受到的辐射剂量最高,为1.54 mGy/h;机架侧区域的辐射剂量水平最低,均小于10 μGy/h.结论 在脑血管造影术中,医护操作人员应尽可能选择剂量较低的后前位及右侧位照射方式投照,并合理选择工作位置,可明显降低受照剂量.

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