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摘要
目的优化电镀3D打印工艺，提高单层电沉积厚度均匀性。方法建立耦合电解液流动、物质传递、电极反应的多物理场模型并数值求解，研究了反应离子浓度和电解液电势的分布云图以及沉积层截面形貌随时间的演化规律，分析了影响沉积层厚度均匀性的直接因素，最后讨论了抑制剂本体浓度CS、对流流速u0、电解液电导率κ及阴极电位φc等因素对沉积层厚度均匀性的影响规律。结果 随着沉积时间的增长，沉积层的形貌越发不平整，反应离子浓度和电解液电势的分布云图随沉积层截面形貌的变化而变化。加入40μmol/L抑制剂后，沉积层表面的反应离子浓度和过电势的分布更加均匀。抑制剂本体浓度越高，沉积层截面形貌越平整，沉积层厚度均匀性越好，但存在一个饱和抑制剂浓度40μmol/L。沉积层厚度均匀性随对流流速或电解液电导率的增大先增后减，随阴极电位增大单调递增。结论 阴极表面反应离子浓度和过电势的不均匀分布是导致沉积层厚度不均匀性的直接因素。添加抑制剂可有效改善沉积层厚度均匀性；过大或过小的流速或电导率都会降低沉积层的厚度均匀性；适当提高阴极电位可提高沉积层厚度均匀性。
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