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摘要
大规模制备高质量六方氮化硼纳米片一直是亟待解决的难题。结合高温热处理氧化插层和液相剥离离子插层的双重特点，高效制备了片层均匀的超薄六方氮化硼纳米片。热处理/水热两步法绿色无污染，得到的氮化硼纳米片产率高达74.8%,横向尺寸在200nm左右，厚度在1.07nm。采用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)、红外光谱(FT-IR)、拉曼光谱、X射线衍射和X射线光电子能谱(XPS)等方法对氮化硼纳米片进行表征分析，进而揭示反应过程中氮化硼纳米片的剥离机制，证明热处理/水热两步法的高效性和规模化生产的可行性。
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