多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究

作者：方亮; 段茜; 郭小伟; 王景全; 张志友; 杜惊雷

来源：四川大学学报(自然科学版), 2007, (06): 1315-1320.

• DMD
• 数字光刻
• 分辨率
• 扫描
• DOE DMD
• digital lithography
• resolution
• scan
• DOE

在DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面获得灰度点阵图形,若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描,则可形成所需求的曝光场分布.这一方法用于衍射微光学元件(DOE)制作,可方便快捷获得高质量的连续面形微结构.文中通过对扫描方式的分析和计算,给出了适于菲涅耳微透镜制作的基片台扫描参数和模拟结果,为用该系统进行DOE实际制作提供了依据.

• 单位
  西南石油大学; 光子技术研究所