含磷酸酯的自酸蚀粘接剂与牙釉质间的化学吸附

作者：沈燕青; 陈冉冉; 傅柏平

来源：口腔医学, 2008, (10): 505-508.

• 磷酸酯
• 牙釉质
• 傅立叶变换红外光谱
• 磷的核磁共振谱
• 化学吸附

目的研究含磷酸酯的自酸蚀粘接剂与天然牙釉质间的化学吸附。方法将成品自酸蚀粘接剂XenoⅢ与牙釉质粉末室温下反应48h后过滤分离滤液和不溶物,反复冲洗并干燥不溶物,用傅立叶变换红外光谱(FTIR)分别对干燥所得不溶物、牙釉质粉末和XenoⅢ进行定性分析,并做差谱。用磷的核磁共振谱(31PNMR)分别对XenoⅢ、XenoⅢ与牙釉质的混合反应产物、过滤分离后的滤液和不溶物进行检测。结果不溶物的FTIR图谱中出现牙釉质和XenoⅢ的特征谱带,与牙釉质差减后,XenoⅢ的特征谱带依然存在,且在代表磷酸盐的谱峰区段1200cm-1～800cm-1内峰位有明显的变化。混合反应产物的31PNMR较预处理剂的谱峰有所左移,且滤液和不溶物的31PNMR在峰型、峰位和峰数上均有较大差异。结论含磷酸酯的自酸蚀粘接剂不仅可使牙釉质表面脱钙,还能化学吸附于牙釉质之上。

• 单位
  浙江大学医学院附属口腔医院; 浙江大学医学院附属第一医院