制备工艺参数对AZ31镁合金表面溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响

作者：黄佳木; 陈韦; 彭佳; 江四川

来源：真空科学与技术学报, 2014, 34(04): 386-390.

• TiAlN薄膜
• 磁控溅射
• 镁合金
• 腐蚀

采用射频反应磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了TiAlN薄膜。用场发射扫描电镜、电化学工作站研究分析了薄膜的表面形貌以及电化学性能,研究了铝靶溅射功率、钛靶溅射功率、氮气流量、沉积时间对TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响。结果表明实验所制备的TiAlN薄膜表面光滑、致密。当Al靶功率为50 W,Ti靶功率为125 W,N2流量为30 mL/min(标准状态),沉积时间为8 h时薄膜耐腐蚀性能最佳。薄膜腐蚀电流密度(4.321×10-7 A/cm2)比镁合金基体(1.066×10-5 A/cm2)降低了1个数量级以上,镁合金耐腐蚀性能得到较大提高。

• 单位
  国家镁合金材料工程技术研究中心; 重庆大学