影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟

作者：曹冲; 冯国英; 杨李茗; 王岚; 高耀辉; 朱海波; ***

来源：光电工程, 2004, (04): 67-71.

• 连续环行抛光
• 压强梯度
• 偏心距
• 转速比

利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著。实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布。这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制。

• 单位
  成都精密光学工程研究中心; 四川大学