结构片断法计算离子型表面活性剂的HLB值

作者：杨运泉; 李远喜; 童刚生; 李国龙

来源：精细化工, 2008, 25(5): 449-453.

DOI：10.3321/j.issn:1003-5214.2008.05.010

• 离子型表面活性剂
• HLB值
• CMC
• 结构片断法
• 疏水值logP
• 基团贡献法

运用结构片断法计算离子型表面活性剂的疏水值logP,并将疏水值概念引入Davies基团贡献法以代替该模型中亲油基的基团数,从而建立了计算离子型表面活性剂HLB值的新模型为:HLB=7+∑亲水基基团数-∑疏水基logP.通过与文献列举的17个不同系列离子型表面活性剂的HLB值对照表明,该新模型的计算值与文献值的平均相对偏差为1.68%.采用非线性方法拟合了烷基硫酸钠,烷基磺酸钠和烷基三甲基溴化铵3类典型离子型表面活性剂的CMC和HLB的关系,并得到了其关联方程,拟合结果表明,由新模型得到的关联方程其复相关系数R2>0.988.

• 单位
  湘潭大学