化学刻蚀法制备硅微纳米复合结构及其光反射性能影响

作者：余思琦; 吴子华^*; 王元元; 谢华清; 张佳; 林锦豪; 赵诚

来源：上海第二工业大学学报, 2020, 37(02): 110-115.

DOI：10.19570/j.cnki.jsspu.2020.02.005

• 金属辅助化学刻蚀
• 旋涂法
• 微纳米复合结构

提出一种改进的金属辅助化学蚀刻技术(metal-assisted electroless etching, MAEE)来制备硅基微纳米(silicon micropillar/nanowire, MP/NW)复合结构,技术结合了传统MAEE及旋涂法,实验腐蚀液由KMnO4/AgNO3/HF组成,探究了腐蚀温度、旋涂速度及腐蚀时间对复合结构的表面形貌特征的影响,并分析了制备条件对反射率与吸收率的影响规律。结果表明,腐蚀温度改变时,复合结构的高度差、MP的直径和NW的长度都随着温度的增加而减少,而反射率随之增大,吸收率随之减小;当旋涂速度改变时,旋涂速度的增加会导致复合结构的高差、MP直径和NW长度减小,反射率随速度增加而增大,吸收率随之减小;腐蚀时间延长时,复合结构的高度差、MP的直径、吸收率随之减小,而NW高度与其反射率随之增加。

• 单位
  上海第二工业大学