ITO玻璃光刻工艺的研究

作者：张麦丽; 王秀峰; 牟强; 张方辉

来源：液晶与显示, 2005, (01): 22-26.

• ITO
• 光刻
• 曝光时间
• 显影时间
• 刻蚀时间 ITO
• photoetching
• exposure time
• developing time
• etching time

将光刻胶涂敷在带有 ITO薄膜的玻璃表面上,利用紫外光对其进行光刻,通过金相显微镜观察刻蚀后的 ITO表面形貌,定性地讨论各个工艺的不同对刻蚀后的电极的影响,得到最佳清洗工艺为:洗涤剂棉球擦洗,然后分别用丙酮、蒸馏水超声清洗两次,烘干;对于正性光刻胶RZJ 390PG,最佳实验效果的曝光时间为5 min;最佳显影时间为 2 min;最佳刻蚀时间为6 min,为OLED得到精细阳极奠定了基础。

• 单位
  陕西科技大学; 电子工程学院; 材料科学与工程学院