基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO_2复合薄膜性能的影响

作者：林明贤; 赵高凌; 汪建勋; 翁文剑; 刘军波; 应益明; 韩高荣

来源：硅酸盐学报, 2007, (11): 1520-1525.

DOI：10.14062/j.issn.0454-5648.2007.11.027

• 二氯化钛
• 掺氟二氧化锡
• 常压化学气相沉积
• 节能
• 光催化性 titanium dioxide
• fluorin-doped tin dioxide
• atmospheric pressure chemical vapor deposition
• energy-saving
• photocatalysis

以Ti(OC_3H_7)_4为先驱体,SnO_2:F镀膜玻璃为基板,采用常压化学气相沉积法制备了TiO_2/SnO_2:F复合薄膜。用扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见一近红外透射光谱等手段对样品的物相和性能进行了研究。结果表明:金红石相的SnO_2:F底膜促进了TiO_2金红石相的形成:当基板温度为480℃时。TiO_2/SnO_2:F复合薄膜出现针状结构。但随着基板温度继续升高,针状结构消失。样品的可见光透过率随基板温度而变化,其值为60%～90%,基本满足建筑物的采光要求。当基板温度为530℃时,TiO_2/SnO_2:F复合薄膜的光催化性能最好。

• 单位
  硅材料国家重点实验室; 浙江大学