片式薄膜电阻器的生产采用光刻的工艺来实现电阻图形,会大大降低膜层所受到的应力,保证电阻的稳定性和一致性。改进光刻胶的涂覆均匀性是改进光刻工艺一种最节省成本最有效的技术手段。对匀胶工艺中的最关键的两个技术参数转速和时间进行了分析,同时研究了前烘的温度和时间对显影图形的影响。
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