等温CVD制备炭/炭复合材料过程中气体滞留时间的数模分析(英文)

作者：于澍; 郑洲顺; 张福勤; 蔡永强

来源：Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2011, (08): 1833-1839.

• 化学气相沉积
• 滞留时间
• 微分方程 chemical vapor deposition
• residence time
• mathematical model

在化学气相沉积(CVD)制备炭/炭复合材料的过程中,对采用强制通过毛坯的特定装炉方式下的碳源气体的流动动力学及其反应机理进行系统的理论分析。在一系列的计算基础上,得到毛坯内部空腔压强、毛坯外部空腔压强和毛坯的孔隙度随时间变化的微分方程模型,求出气体在炉体的滞留时间以及渗透毛坯的时间。该理论计算所得的CVD过程中毛坯孔隙度变化与实际生产过程中的孔隙度变化趋势一致,表明该研究理论分析结果具有较高的可信度。

• 单位
  粉末冶金国家重点实验室; 中南大学