磁控溅射Al膜的AFM性能分析及其制备工艺研究

作者：何建梅; 温浪明; 章晨; 张勋; 郑锡鑫; 庄炜培; 张红; 徐海红

来源：物理实验, 2007, (08): 42-46.

DOI：10.19655/j.cnki.1005-4642.2007.08.015

• 铝膜
• 表面粗糙度
• 溅射功率
• 溅射时间
• AFM Al film
• surface roughness
• sputtering power
• sputtering time
• AFM

用原子力显微镜(AFM)对直流溅射和射频溅射制备铝膜的表面粗糙度及颗粒大小进行了分析比较.实验结果表明:溅射功率和溅射时间对铝膜表面粗糙度有影响,通过延长溅射时间或提高溅射功率可使膜的平均颗粒直径增大.

• 单位
  华南理工大学