本发明公开了一种基于自抗扰控制的荧光粉胶微涂覆系统及方法,所述系统包括工控机、微涂覆自抗扰控制单元和荧光粉胶材料装载及喷涂机构；所述微涂覆自抗扰控制单元的各子单元均基于自抗扰控制器内部的优化控制算法对微涂覆过程进行自抗扰控制。本发明从荧光粉胶雾化涂覆工艺优化角度出发,针对荧光粉胶微涂覆过程引入自抗扰控制,从而不需要确定被控对象的精确模型就可实现对非线性、强耦合、大滞后系统的高精度控制、同时具有较好的抗干扰性能。
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