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摘要
针对纳米悬浮结构的制作,对不同温度和不同气相条件下的氢氟酸(HF)气相刻蚀进行了研究。利用自制的研究装置,使用HF/水混合气体和HF/乙醇混合气体分别进行了HF对PECVD SiO2的气相刻蚀实验,同时测量了不同衬底温度下刻蚀速率的变化。研究结果表明,在常温常压下,HF/乙醇混合气体气相刻蚀速率约为7.6 nm/s,而HF/水混合气体气相刻蚀速率约为11.5 nm/s。在衬底温度分别为35,40和50℃时,HF/水混合气体的气相刻蚀速率分别为10.25,7.95和5.18 nm/s。利用HF气相腐蚀进行SiO2牺牲层释放,得到了悬浮的纳米梁结构,梁与衬底的间距为400 nm。
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