摘要
【目的】研究灌溉和氮肥施肥深度对日光温室基质栽培辣椒生长和产量的影响.【方法】本研究以辣椒‘陇椒10号’为试验材料,采用同位素示踪法将K15NO3分别标记于基质剖面向下5~10cm(F5)、15~20cm(F15)处,并设两个灌水下限分别是田间持水量的60%(W60)、80%(W80),研究了不同灌水条件下基质栽培辣椒生长、光合特性、品质与产量情况.【结果】处理W80F5辣椒植株干、鲜质量分别为72.14g/株、549.5g/株,显著高于其他处理;W80F15处理辣椒叶片的蒸腾速率和气孔导度显著高于其他处理;处理W80F5辣椒产量为4 076.24kg/667m2,显著高于其他处理.【结论】处理W80F5更有利于辣椒的生长及产量的形成.
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