NF3与CF4分离纯化技术路线研究进展

作者：周言; 钟强; 刘倩; 黄国强^*

来源：应用化工, 2023, 52(01): 266-272.

DOI：10.16581/j.cnki.issn1671-3206.20221115.003

• 三氟化氮
• 四氟甲烷
• 电子特种气体
• 杂质
• 分离纯化

在NF3的工业化生产中，会与原料氟气(F2)一起引入不纯物质四氟甲烷(CF4),严重影响了NF3的品质。需要开发出具有经济效益成本的NF3和CF4分离纯化技术方法。CF4和NF3这两种气体具有非常相似的物理特性，很难通过传统的技术进行分离。因此，总结了NF3中CF4杂质的分离纯化技术研究进展，从纯度、效率、成本和安全等角度对比分析了包括低温精馏、吸附、膜分离、萃取精馏和吸收在内的5种纯化技术路线的优势和不足。低温精馏通常需要在-100～-192℃的低温下操作，而膜技术和使用沸石和分子筛的吸附技术过程在能耗、维护成本、连续化和处理能力等方面受到分离材料性能的显著限制。在此基础上，提出了克服当前工业挑战的潜在的分离纯化方法。指出基于吸收和萃取精馏的方法适用于从NF3中纯化CF4杂质的最佳的工艺技术路线。

• 单位
  天津大学