锰氧化物薄膜制备工艺

作者：陈世杰; 杨俊红

来源：光源与照明, 2021, (02): 40-41.

• 锰氧化物薄膜
• 巨磁电阻效应
• 超巨磁电阻技术
• 脉冲激光溅射技术

文章主要介绍了CMR超巨磁电阻效应、脉冲激光溅射沉积薄膜制备技术,及锰氧化物薄膜的特点性应用前景。首先,介绍巨磁电阻效应(GMR)和超巨磁电阻效应(CMR)发展历史及其原理和应用;其次,介绍锰氧化物薄膜所要用到的脉冲激光溅射沉积薄膜(PLD)技术的原理和制备过程,并介绍了其制备薄膜的特点和优势;最后,介绍锰氧化物薄膜,先举La0.8Bi0.2MnO3(LBMO)薄膜的例子,分步介绍其利用PLD的制备过程,再介绍LBMO的特性,通过LBMO的介绍引出锰氧化物薄膜的应用前景和未来可能遇到的研究困境。

• 单位
  苏州科技大学