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摘要
伴随着电子技术的飞速发展，作为电子元件之母的PCB结构也朝着高密度、高集成、细线路、小孔径不断高速前进。PCB电镀工序作为精细线路制作前制程工序，铜厚均匀性直接影响精细线路制程的良率。对于75μm及以下线宽/线距铜厚极差超出8μm则会给线路蚀刻带来局部蚀刻不净及线幼并存的风险。本文研究6 sigma质量管理在电镀镀铜均匀性工艺参数优化的运用。通过收集电镀制程不同参数，在拟合回归模型中分析不同因子贡献率，得出阳极浮架参数设定为主要影响因子。并设计DOE因子实验表，通过实验验证并优化阳极浮架设定参数来改善镀铜均匀性。最终镀铜20μm铜厚极差可控制在5μm内，实际产品验证亦可达到预期改善目标。
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