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摘要
了解等离子体阻抗在磁控溅射放电过程中的变化规律，有利于调控电源和负载之间的阻抗匹配，达到最大化利用溅射功率，提高镀膜质量的目的。为了研究磁控溅射镀膜工艺过程中等离子体的阻抗特性的变化趋势，本文采用V-I probe测量等离子体阻抗大小、极板负偏压等参数，研究了气体流量和溅射功率对等离子体阻抗特性的影响。结果表明，在本文的实验条件下，等离子体始终呈现为容抗特性。当气体流量增大时，受氩气的电离率影响，等离子体阻抗实部R呈现先增大后减小的趋势，阻抗虚部X受到鞘层的影响呈现先减小后增大的趋势。当溅射功率增大时，等离子体阻抗实部R受欧姆加热的影响一直增大，阻抗虚部X受到负偏压和鞘层的影响逐渐减小。
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单位自动化学院; 广西科技大学; 中国科学院微电子研究所
